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  • CSR
  • 事務所・関連会社

沿革

1963年5月 資本金50万円で設立。主としてカーボン抵抗器の製造販売を開始。
1967年6月 コイル、リードリレーの生産開始。
1969年9月 タンタルコンデンサー、スチロールコンデンサーの生産開始。
1970年3月 資本金300万円に増資。
1972年5月 資本金600万円に増資。
1975年3月 資本金1,100万円に増資。
1975年6月 御殿場市に関連会社(有)加藤技研工業を設立。
1980年4月 関連会社大蔵電気(株)を設立。半導体集積回路(IC・LSI)事業への進出。
1984年2月 大蔵電気(株)の工場を増設。
1984年7月 資本金2,200万円に増資。
1985年4月 (株)加藤電器製作所・富士吉田本部大蔵電気(株)新本社・工場竣工。
1985年5月 関連会社(株)通産を設立。
1987年4月 富士見工場建設。
1988年3月 関連会社(株)カトムを設立。ソフトウエア開発事業への進出をする。 技術開発センターを開設。(DU事業部)
1988年8月 甲府市に関連会社(有)OMCを設立。
1990年5月 船津工場建設。
1990年9月 資本金4,400万円に増資。
1991年7月 関連会社(有)加藤技研工業を静岡加藤電器(株)に組織変更。河口湖工場建設。
1991年9月 資本金8,800万円に増資。
1991年11月 (有)OMCの新工場を甲府市南部工業団地に建設、移転。(大津事業所)
1993年3月 東北大蔵電気(株)本社・工場竣工。
1994年2月 仲工場化合物半導体生産開始。
1994年4月 大蔵電気(株)IS09002認証取得。
1994年8月 (株)通産Gセンサー生産開始。
1995年4月 東北大蔵電気(株)メモリーIC生産開始。
1996年7月 (株)カトム中町ビルヘ新拠点。
1997年3月 大蔵電気(株)8,000万円、(株)カトム8,000万円、(株)通産5,000万円に増資。
1998年4月 (有)OMC落合事業所開設。
1998年7月 (有)OMCを(株)OMCに組織変更し、5,000万円に増資。
1999年4月 (株)OMC大津事業所にてリードスイッチメッキ事業を開始。 東北大蔵電気(株)大衡事業所を開設。 技術開発センターを開設。(IC事業部)
2000年3月 大蔵電気(株)水晶デバイス量産開始。
2001年7月 関連会社富士マイクロデバイス(株)を設立。
2002年2月 (株)カトム新宿事業所開設。
2002年12月 (株)加藤電器製作所、東北営業所開設。
2003年11月 (株)加藤電器製作所、東京営業所開設。
2003年12月 主力拠点ISO-14000認証取得。 大蔵電気(株)IS09001(2000年度版)認証取得。
2004年1月 (株)加藤電器製作所、関西営業所開設。
2005年9月 (株)加藤電器製作所IS09001(2000年度版)認証取得。
2005年10月 主力拠点ISO-14001(2004年度版)認証取得。
2005年11月 (株)加藤電器製作所、八王子テクノロジーセンター開設。
2006年11月 (株)加藤電器製作所、八王子営業所開設。
2008年5月 東北大蔵電気(株)2号棟竣工。
2009年11月 医療機器量産開始。
2011年12月 K3棟竣工。
2012年6月 東北大蔵電気(株)利府工場 TS-16949認証取得。
2014年4月 大蔵電気(株)/富士マイクロデバイス(株)K1工場 TS-16949認証取得。
2014年10月 (株)カトム飯田橋事業所開設。
2016年 東北大蔵電気(株)石巻工場開設。
2017年 富士マイクロデバイス(株)甲府工場開設。
2018年3~4月 IATF16949認証取得(東北大蔵電気(株)利府工場・富士マイクロデバイス(株)K1工場、大蔵電気(株))。
2021年4月 IATF16949認証取得(PAT事業グループ、東北大蔵電気石巻工場)。
2023年4月 IATF16949認証取得(富士マイクロデバイス(株)K3工場)。
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